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      工業超純水系統提升優“+”品質超純水 推進綠色半導體工程

      文章出處:作者:發表時間:2021-07-28 13:41:54

         近年來隨著人工智能、物聯網和通信等創新技術的持續發展和快速應用,我國半導體產業持續增長。半導體工業用水要求極為嚴苛,以滿足日益小型但高速、高效的高端芯片制造要求。芯片的制造已經在納米線寬下進行高精度的蝕刻、光刻及制作沖洗等,因此要求相對應的沖洗芯片用的超純水的純度越來越高、越來越苛刻。

        

       

        既然超純水這么重要,那么什么樣的水才能算是超純水呢?顧名思義,超純水(UPW)是指電阻率達到18 MΩ·cm(25℃)的水。這種水中除了H2O外,幾乎沒有什么雜質或其他離子。不僅如此,不同行業對于超純水的水質要求也比較嚴格,一般根據應用行業的性質,電導率需達12MΩ、15MΩ、17MΩ、18MΩ、18.2MΩ等不同級別的超純水。

        萊特萊德通過預處理裝置,使原水的水質達到一個預期的指標,以滿足純化過程對源水的要求。RO系統利用壓力差原理,不僅耐酸堿清洗、抗高污染,還可以加快離子遷移速度,使產水TOC在20PPB以下。能有效地去除水中的鹽類,脫鹽率可達到99%左右。采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。萊特萊德能夠為用戶提供更優品質的超純水,能高效去除芯片表面上的殘留物,防止對芯片造成腐蝕,從而提高芯片的使用壽命,更好的提升芯片的良品率。

        制造半導體需要大量的水,在全世界對半導體的需求持續增長的情況下,優品質超純水的應用對于推進綠色半導體工程而言是重中之重,對于中國半導體產業的長遠發展同樣重要。萊特萊德從專業的角度確保清潔生產為用戶提供更有保障的工業超純水系統,系統具有24h穩定運行,水質達標三年穩定不衰減等優勢。

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