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      行之有效 一種超純水處理系統芯片表面清洗工藝

      文章出處:作者:發表時間:2021-07-28 13:38:42

        隨著集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段,集成電路芯片制造工藝中所要求的芯片表面的潔凈度越來越高,為了保證芯片材料表面的潔凈度,集成電路的制造工藝中存在數百道清洗工藝。

        

       

        傳統的清洗方式是利用去離子水沖洗芯片,這種方式中,去離子水以很高的流量沖擊芯片,將芯片上的雜質和污染物沖走,從而達到清洗效果。但是這種清洗方法對芯片的沖擊力過大,容易造成元件圖案的損壞,并且這種清洗方式的去離子水的利用率低,導致資源浪費。另一種清洗方式是采用鹽酸或氫氟酸進行浸泡清洗,然而,此種清洗方法的清洗效果不佳,表面殘留的溶液會對芯片表面造成腐蝕。故此,亟需一種改進的芯片表面的清洗方法,以克服以上的缺陷。

        超純水是在反滲透技術的基礎上,設有介質過濾器,活性碳過濾器,精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統等。有效去除天然水中常見的可溶性無機物、有機物、顆粒物、微生物、可溶性氣體等雜質。超純水處理系統工藝流程如下:

        預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精制混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象

        為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,萊特萊德超純水處理系統在工藝設計上,以國家自來水標準的水為源水,系統運行安全、穩定、可靠,并實現系統設備的遠程監控。運行出現任何異常時,系統可進行聯鎖保護,確保為集成電路芯片行業提供用水保障。

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