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      EDI超純水設備“強力助陣” 半導體行業景氣度持續高漲

      文章出處:作者:發表時間:2021-06-23 10:10:07

         2021年,世界晶圓廠的新一輪資本支出將啟動,國內設備市場需求將快速增長,設備制造商的國內替代將顯著加快。SEMI稱,2021年全球半導體資本支出預計將同比增長31%,超過1400億美元。臺積電和中芯國際相繼增加資本支出,導致設備和材料需求快速增長。2020年,全球半導體設備市場規模再創新高,達到700億美元,其中大陸占比26.2%,國內替代率將逐步提高。國產裝備國產化已逐步起航,基本完成從0到1的轉變,國產化替代空間迅速打開,核心裝備企業的成長可想而知。

        

       

        半導體行業景氣度持續超高漲

        半導體材料供應有限,國產化進程進一步推進,國產化進程加快,各類材料不斷突破,滿足廣闊的替代空間。貿易摩擦和自然災害限制了半導體原材料的供應。外資廠商市場占有率高的品種,如光刻膠、化學機械拋光材料、電子專用氣體等,存在供應中斷的可能。半導體材料的國產化進程加快。若樂觀假設假設我國電子半導體材料的收入規模為100億元(多為中低端產品,高端產品仍需突破),2020年全球份額將不到3%(全球539億美元),而國內份額僅為16%(國內生產總值約91.73億美元,占世界的17%),國內替代需求巨大。目前,隨著技術的變革、技術的進步和我國電子產業鏈的逐步完善,進入我國批量生產和材料供應的各類廠商開始涌現。

        EDI超純水設備“強力助陣”半導體行業

        半導體的質量與產量密切相關。在半導體生產中,超純水主要用于清洗硅片,少量水用于制備藥液、硅片氧化蒸汽源、部分設備的冷卻水、電鍍液的制備,水中的堿金屬會使絕緣膜的耐壓性能變差,重金屬會降低PN結的耐壓性能,III族元素會惡化n型半導體的特性,V族元素會惡化p型半導體的特性,水中的磷經細菌高溫碳化后,會使p型硅的局部區域變成n型硅,導致器件性能的惡化。因此如果水中的微粒(包括細菌)吸附在硅片表面,會造成電路短路或特性不良,可見,超純水在半導體工業中是必不可少的。

        傳統的超純水處理工藝為單級/雙級反滲透設備+混床。其缺點是需要再生,不能連續產水,不僅效率低,而且浪費資源。經過多年的實踐,萊特萊德結合膜分離技術,采用反滲透加離子交換系統(或EDI)工藝生產超純水。與傳統工藝相比,該工藝具有運行費用低(離子交換器再生周期大大延長)和運行可靠等優點。EDI超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。

        EDI超純水設備是半導體行業的重要基石,是半導體制造業的重中之重。萊特萊德EDI超純水設備改進了傳統工藝級供水的缺點,并配備了濃水置換技術,防止膜系統受到微生物污染。通過對工藝的改進,提高了系統的回收率,降低了能耗和運行成本。能有效去除水中雜質、重金屬離子、細菌等有害物質,實現超純水的大量連續供應。它能滿足芯片生產用水的相關標準,降低企業生產的風險和成本。有了萊特萊德EDI超純水設備“強力助陣” 半導體行業景氣度將持續高漲。

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