一、項目名稱

　　宿遷市某集成電路公司40m³/h超純水項目

　　二、項目背景

　　集成電路超純水設備系統常用于工業中半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。隨著集成電路集成度的提高，對水質的要求也越來越高，這也對超純水處理工藝和產品的簡單性、自動化、連續性和可持續性提出了更嚴格的要求。

　　宿遷市某集成電路公司通過引進和聯合等渠道，打造和構建核心管理、技術和市場團隊，努力開發集成電路產品、應用軟件，提供芯片、成品、模組及總體解決方案和技術服務，公司在生產過程中對超純水的需求量巨大，在多方考察及走訪后，最后與萊特萊德達成合作，引進了萊特萊德超純水設備。

　　三、設計基礎

　　1、項目工藝

　　萊特萊德根據該公司要求，經過不斷探討，最終決定選擇多介質+雙反+EDI+TOC+拋光混床工藝。

　　2、原水水質

　　本系統以客戶來水符合《生活飲用水衛生標準》(GB5749-2006)設計(電導率<500um)，如果實際水質與設計水質有較大差異，可對系統工藝和配置進行適當調整。

　　3、設計產水量

　　產水量：1m³/h

　　4、設計產品水質

　　設備產水電阻率：18MΩ·CM(25℃)

　　5、設備公共條件需求

　　(1)原水要求：進水水量≥2.6m³/h，進水溫度20-25℃。

　　(2)電源要求：電壓：380V 50Hz和220V 50Hz。

　　(3)排水要求：設備附近1米需要業主提供排水溝或者排水管。

　　(4)設備間要求：設備間溫度15-35℃，通風和照明設備。

　　(5)氮封水箱用氣要求：由甲方提供氮封水箱密封所需氮氣，氮氣純度≧99.999%，氮氣壓力0.4MPa。

　　6、管路鋪設

　　乙方負責純水處理系統進出水口外一米管道，甲方負責將現場管道引致乙方預留管道接口處。設備擺放、對接口位置以甲乙方共同商討確定的布置圖為準。

　　四、項目優勢

　　1、采用先進、實用、可靠的水處理技術，確保處理后的水穩定達標。嚴格執行國家環保政策，符合國家有關法律、法規、標準、規范以及地方法規。

　　2、根據進出水要求，選用成熟可靠、高效節能、占地少、經濟實用的處理工藝，確保處理效果，減少項目投資及日常費用。

　　3、工藝流程簡潔通暢，整體布置簡潔、合理、美觀符合廠區統一規劃，要求水處理設施布局與周邊環境協調，不對周邊環境造成二次污染。

　　4、控制總體投資，工程造價合理，保證長期安全平穩運行，降低日常運行成本。

　　5、管線合理布置充分利用現有的設置及現有的地形條件。處理施設整體工程施工周期短，安裝、檢修方便，易于管理。安全措施得當，避免隱患。

　　6、各功能模塊優化組合而成，從而保證了整個系統的高性能與高質量，使產品水完全達到甚至優于用水水質標準。

　　7、在保證系統穩定、可靠運行的前提下，設計上提高整個系統的自動化水平。主要設備選擇以先進、成熟為原則，盡量降低工程投資和運行費用。

　　萊特萊德專注電子超純水領域，是集研發設計、設備制造、工程施工、運營維護為一體的環保解決方案服務商。從研發設計、設備制造，到工程施工、運營維護，我們的目標是成為客戶值得信賴的服務商，為客戶提供不但買得起，還能用得起，更能用得好的環保解決方案!